La lumière stratégique : tout tient en 13,5 nanomètres

Dans le périodique : Epsiloon. Hors-série, n°017 (01/2026)

Auteur : Xavier Boivinet
- Langues : Français
- Nature du document : documentaire Genre : Article de périodique
- Résumé :
  Présentation de la lumière extrême ultra-violet (EUV) ou lithographie ultraviolette extrême : historique de l'utilisation et de l'évolution de la lithographie dans l'industrie des circuits imprimés depuis les années 1980, caractéristiques de la technologie, monopole du process de fabrication des machines par la société ASML, enjeux pour l'économie industrielle mondiale (recherche, production des wafers).
- Descripteurs :
  Motbis
  industrie de pointe / onde électromagnétique

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